TracePro 提供完整的背光模塊分析功能與網(wǎng)點(diǎn)優(yōu)化能力。本課程將完整介紹如何使用 m4**~xfC  
TracePro 完成背光模塊之分析，并在課程中引入TracePro 所提供的背光模塊網(wǎng)點(diǎn)優(yōu)化軟件的使用教學(xué)，讓您可以藉由網(wǎng)點(diǎn)優(yōu)化程序與光學(xué)分析軟件的操作，輕松完成背光模塊的設(shè)計(jì)。 BBaQ}{F8>2  
本訓(xùn)練課程通過Lambda Research Corp.原廠認(rèn)證，全程采用一人一機(jī)、實(shí)機(jī)操作的方式進(jìn)行，并會有資深工程師隨堂提供及時的協(xié)助，幫助您快速的了解并使用TracePro 快速完成背光模塊設(shè)計(jì)。 v&9y4\j  
本課程全程采用小班教學(xué)，互動性佳，輕松學(xué)習(xí)，同時為您解決使用仿真軟件時所遭遇到困難。課程內(nèi)容精彩豐富，并教材多取材自業(yè)界實(shí)際案例，相信透過深入淺出的教學(xué)方式，必定能讓您快速掌握背光模塊設(shè)計(jì)與優(yōu)化的要領(lǐng)！ i`(XLi}k  
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時間

內(nèi)容

09:00~16:00

1.      簡介 TracePro®應(yīng)用于平面顯示技術(shù) B-xGX$<z   2.      TracePro®之幅射度與亮度分析 .k#U]M   3.      背光模塊之光源選擇與模擬 '9laa=H%8   4.      使用 TracePro®正確檢驗(yàn)與分析背光模塊之輸出效能 2y// '3[   5.        表面光源快速編輯器使用教學(xué) TracePro® Surface Source Property Editor ® V\>K]mwD   6.      TracePro®之各項(xiàng)分析工具與其參數(shù)設(shè)定 ohRjvJ'v|   7.      TracePro® 光學(xué)材料特性之仿真原理與應(yīng)用 VU#`oJ:{   8.      TracePro®進(jìn)階功能應(yīng)用于背光模塊設(shè)計(jì)與分析 %P<hW+P!   9.      背光模塊之光學(xué)膜片之仿真與分析 8NxM4$nQX   10.  蒙特卡羅光線追跡之原理與極限 7S-ys+   11.  使用重點(diǎn)取樣功能來輔助設(shè)計(jì) ]s]vZ   12.  TracePro® RepTile (一) : 基本網(wǎng)點(diǎn)功能 ?Y $JWEPJ   13.  TracePro® RepTile (二) : 表列式與參數(shù)化固定式網(wǎng)點(diǎn)功能 Nkjza:f{   14.  TracePro® RepTile (三) : 自由布點(diǎn)之網(wǎng)點(diǎn)功能 #H)vK"hF   15.  TracePro®網(wǎng)點(diǎn)優(yōu)化程序(Texture Optimizer®) part - 1 : 快速布點(diǎn)程序 \9cbI3rGz   16.  TracePro®網(wǎng)點(diǎn)優(yōu)化程序(Texture Optimizer®) part - 2 : 消除穆爾紋(MD Smoothing &Anti-Moire) :G [|CPm-   17.  TracePro®網(wǎng)點(diǎn)優(yōu)化程序(Texture Optimizer®) part - 3 : 自動優(yōu)化網(wǎng)點(diǎn) /$ w%Q-p   18.  實(shí)際演練背光模塊設(shè)計(jì)與優(yōu)化 ,`|3KE9

建議對象：已熟悉TracePro 基礎(chǔ)操作之相關(guān)從業(yè)人員 69PE9zz  
招生名額：10人(請自帶notebook) dz:E?  
費(fèi)用：美國原廠課程,兩天價值3,500美元(機(jī)票加課程費(fèi)用) P60~V"/P  
現(xiàn)在,您只需付RMB 3,500 (維護(hù)期內(nèi)客戶享有8折優(yōu)惠) ,課后發(fā)給TracePro培訓(xùn)zhengshu及TracePro POLO衫 s(5Y  
日期：2011年6月21日~6月22日(星期二~三) 共12小時 hcgMZT!<5  
講師介紹 s6H]J{1F  
現(xiàn)任Lambda Research Corporation臺灣分公司資深開發(fā)工程師 wVX[)E\J  
專長光學(xué)設(shè)計(jì)與優(yōu)化算法 <->{  
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時間：2011年06月21日~06月22日(星期二~三) 09:00~16:00 FTX=W
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地點(diǎn)：深圳 y0{u<"t%w  
主辦：APIC愛爾發(fā)上海分公司‧Lambda Research公司 srr :!5  
報名：請于 6月15日前傳真或e-mail報名表并完成匯款,座位有限，額滿為止 Pj[PIz  
電話：021-64052328  曹小姐  傳真 : 021-64052327  e-mail：candy@apic.com.cn l>2E (Y|  
報名表請連結(jié)下載