Zemax光學(xué)設(shè)計從入門到精通	京東雙十一活動紅包購物券領(lǐng)取	Zemax光學(xué)設(shè)計實踐基礎(chǔ)(陳家璧)	ZEMAX光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計實戰(zhàn)
訊技光電:VirtualLab Fusion獨家供應(yīng)商	光學(xué)設(shè)計與光學(xué)元件	CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape	計算光學(xué)帶來的成像革命

發(fā)帖回復(fù)

2588閱讀
0回復(fù)

[下載]退火對射頻磁控濺射氧化鋅薄膜性能的影響 [復(fù)制鏈接]

上一主題下一主題

離線chenchao

實習(xí)生

發(fā)帖: 61

光幣: 248

光券: 0

只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2011-12-18

關(guān)鍵詞：磁控濺射射頻氧化鋅薄膜

退火對射頻磁控濺射氧化鋅薄膜性能的影響摘要：采用射頻磁控濺射技術(shù)在 SiO2 / Si 上淀積高 c軸取向的 ZnO 薄膜 ,在氧氣和氬氣的混合氣氛、不同溫度(400～900 ℃)下進行快速熱退火處理。利用 X2射線衍射(XRD) 、原子力顯微鏡(AFM) 、掃描電鏡( SEM)和透射電鏡( TEM)對薄膜結(jié)構(gòu)、形貌與界面狀態(tài)性能進行了分析。研究結(jié)果表明 , ZnO 薄膜的晶粒尺寸隨著退火溫度的升高而增大 ,衍射峰強度增強 ,峰位隨之偏移; SEM 分析顯示薄膜呈柱狀生長 ,表現(xiàn)出較好的 c軸取向性; TEM分析表明 ZnO 與下電極 Pt 是呈共格生長 ,晶格匹配很好。


	關(guān)閉您還沒有登錄，快捷通道只有在登錄后才能使用。立即登錄還沒有帳號？趕緊注冊一個

帖子

[下載]退火對射頻磁控濺射氧化鋅薄膜性能的影響 [復(fù)制鏈接]