中頻非平衡磁控濺射制備 Ti-N-C膜摘要：采用霍爾離子源輔助中頻非平衡磁控濺射技術，通過改變工作氣氛、 偏壓模式、 濺射電流以及輔助離子束電流，在不銹鋼材料基體上制備了 Ti/ TiN/ Ti (C ,N) 硬質耐磨損膜層。對薄膜的顏色、 晶體結構、 膜基結合力等性能進行了檢測分析。 結果表明:膜層的顏色對工作氣氛非常敏感，反應濺射中工作氣氛的微小變化會引起表面膜層顏色很大的變化，在正常的反應氣體進氣量范圍內和較小的基體偏壓下 ，薄膜的晶體結構沒有明顯的擇優(yōu)取向，但是反應氣體的過量通入會使薄膜的晶體結構出現(xiàn)晶面擇優(yōu)取向趨勢，非平衡磁控濺射成膜技術對薄膜晶體結構的擇優(yōu)取向影響并不是很大，在鍍膜過程中施加霍爾電流，可以有效地增加膜基結合力。 8YFG*HSa
. vb##D
關鍵詞：Ti2N2C薄膜；非平衡磁控濺射；中頻濺射靶；晶體結構；離子束輔助沉積
