非成像 光學的邊緣光線原理說明，從光源到目標邊緣的邊緣光線映射能夠應用到非成像器件的設計。然而，在大多數(shù)的非成像反射器，包括復合拋物面聚焦器（CPC），至少部分輻射光經(jīng)過多次反射，一些光線甚至出現(xiàn)被多次反射，最后的檢測揭示光源的一些邊緣光線沒有映射到目標邊緣上，盡管這個CPC在二維空間是理想的。使用一個拓撲的方法，我們改善了邊緣光線原理的公式，來確保對所有的情況都是正確的。我們提出兩種一般原理的不同版本。第一種涉及到不同區(qū)域的邊界與不同數(shù)目的反射器相一致。第二個版本用僅有的單一反射器來說明，但是它涉及到了一個增加的輔助相位空間。我們討論邊緣光線原理作為一個非成像器件的設計程序的使用。CPC用來說明論據(jù)的每個部分。
