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光學(xué)玻璃的清洗工藝介紹
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發(fā)表于: 2015-10-23
1、研磨后的清洗
R!xs;|]
p}.P^`~j
研磨是
光學(xué)
玻璃
生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量(外觀和
精度
)的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青,少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異,一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)
鏡片
的材質(zhì)及研磨精度不同,選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護(hù)作用的,以防止
拋光
完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗
設(shè)備
大致分為兩種:
84P^7[YX>
Kp"mV=RG2T
本部分內(nèi)容設(shè)定了隱藏,需要回復(fù)后才能看到
wgSA6mQZ
綜 述
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