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[原創(chuàng)]高平行度光學(xué)元件表面面形測量方法 [復(fù)制鏈接]

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只看樓主正序閱讀樓主發(fā)表于: 2015-12-22

對(duì)于高平行度透/反射類元件，在布儒斯特角或者正入射情況下檢測時(shí)會(huì)出現(xiàn)因?yàn)楹蟊砻娑啻畏瓷涠a(chǎn)生的自干涉條紋問題，形成多組自干涉條紋，測試干涉條紋和自干涉條紋相互疊加。在測試的干涉條紋中帶有很明顯的自干涉條紋，造成最終的檢測波面出現(xiàn)數(shù)據(jù)的丟失，會(huì)嚴(yán)重影響到面形的計(jì)算。


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[原創(chuàng)]高平行度光學(xué)元件表面面形測量方法 [復(fù)制鏈接]