微透鏡陣列作為一種重要的光學(xué)元件，具有體積小、重量輕、集成度高的特點(diǎn)，吸引了大量的目光。伴隨著半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展，光刻和微細(xì)加工技術(shù)的提高，自上世紀(jì)八十年代起，相繼出現(xiàn)了一系列嶄新的微透鏡陣列制作技術(shù)。由于透鏡陣列器件分為折射型微透鏡陣列和衍射型微透鏡陣列，它們在制作工藝也開發(fā)出不同的方法。 Jl|^^?  
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1.折射微透鏡的制作方法 h@J3+u<  
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由于折射微透鏡陣列器件在聚光、準(zhǔn)直、大面陣顯示、光效率增強(qiáng)、光計(jì)算、光互連及微型掃描等方面越來越廣泛的應(yīng)用，它的制作工藝和方法得到了日益深入的研究。到目前為止，已經(jīng)出現(xiàn)很多制備折射微透鏡陣列的方法，光刻膠熱回流方法、激光直寫方法、微噴打印法、溶膠一凝膠法、反應(yīng)離子刻蝕法、灰度掩模法、熱壓模成型法、光敏玻璃熱成型法刪等。下面主要介紹幾種主流的微透鏡陣列制作方法。 X9?0`6Li  
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(1)光刻膠熱回流技術(shù) {REGoe=W%  
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光刻膠熱回流法(熔融光刻膠法)是Poporie于1988年提出的，整個(gè)工藝過程可以分為三步，見下圖：一、對基板上的光刻膠在掩模的遮蔽下進(jìn)行曝光，曝光圖案呈圓形，矩形或正六邊形；二、對曝光后的光刻膠進(jìn)行顯影并清洗殘余物質(zhì)；三、放置于加熱平臺上，熱熔成型。由于這種方法具有工藝簡單，對材料和設(shè)備的要求較低，工藝參數(shù)穩(wěn)定且易于控制，復(fù)制容易等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛地用于微透鏡陣列的制作當(dāng)中。 x6ayFq=  
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然而利用這種技術(shù)制作的微透鏡陣列也存在諸多缺點(diǎn)：一、由于光刻膠對于基板材料存在浸潤現(xiàn)象，當(dāng)光刻膠在熔融狀態(tài)時(shí)與基板的附著力是一定的，那么當(dāng)熔融光刻膠最終成型以后微透鏡球面輪廓與基板之間存在浸潤角，使微透鏡的邊緣存在一定的曲率，而中間部分下陷；二、一般情況下微透鏡陣列的填充因子不會超過80%，而且光刻膠在熔化后容易粘連，相鄰的熔融光刻膠一旦接觸后，不會形成透鏡的面形。由于填充因子不高，使入射的光不能充分利用，并且會引起背景噪聲；三、由于光刻膠本身的機(jī)械性能和化學(xué)性能比較差，光學(xué)性能也不高，不適于作為最終的微透鏡或其他微結(jié)構(gòu)的材料。 ]W5p\(1g  
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(2)激光直寫技術(shù)  鱼台县| 安塞县| 策勒县| 永登县| 金乡县| 托克逊县| 龙井市| 汕头市| 通化县| 五家渠市| 泰顺县| 民勤县| 拜泉县| 崇信县| 江阴市| 松潘县| 巴林左旗| 当阳市| 海宁市| 偃师市| 衡水市| 台北县| 贵溪市| 丁青县| 五峰| 镇宁| 双流县| 固始县| 京山县| 同江市| 南昌市| 江永县| 正宁县| 会泽县| 平山县| 铜陵市| 巴彦县| 德阳市| 清镇市| 兴安县| 南阳市|