微透鏡陣列作為一種重要的
光學(xué)元件,具有體積小、重量輕、集成度高的特點,吸引了大量的目光。伴隨著
半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展,光刻和微細(xì)加工技術(shù)的提高,自上世紀(jì)八十年代起,相繼出現(xiàn)了一系列嶄新的微透鏡陣列制作技術(shù)。由于透鏡陣列器件分為折射型微透鏡陣列和衍射型微透鏡陣列,它們在制作工藝也開發(fā)出不同的方法。
jb|al[p\ +`}QIp0 6j/g/!9c! 1.折射微透鏡的制作方法
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B 由于折射微透鏡陣列器件在聚光、準(zhǔn)直、大面陣顯示、光效率增強、光計算、光互連及微型掃描等方面越來越廣泛的應(yīng)用,它的制作工藝和方法得到了日益深入的研究。到目前為止,已經(jīng)出現(xiàn)很多制備折射微透鏡陣列的方法,光刻膠熱回流方法、
激光直寫方法、微噴打印法、溶膠一凝膠法、反應(yīng)離子刻蝕法、灰度掩模法、熱壓模成型法、光敏玻璃熱成型法刪等。下面主要介紹幾種主流的微透鏡陣列制作方法。
hSr2<?yk 8iA[w-Pv (1)光刻膠熱回流技術(shù)
G)t_;iNL| r$T\@oTL 光刻膠熱回流法(熔融光刻膠法)是Poporie于1988年提出的,整個工藝過程可以分為三步,見下圖:一、對基板上的光刻膠在掩模的遮蔽下進行曝光,曝光圖案呈圓形,矩形或正六邊形;二、對曝光后的光刻膠進行顯影并清洗殘余物質(zhì);三、放置于加熱平臺上,熱熔成型。由于這種方法具有工藝簡單,對
材料和設(shè)備的要求較低,工藝
參數(shù)穩(wěn)定且易于控制,復(fù)制容易等優(yōu)點,被廣泛地用于微透鏡陣列的制作當(dāng)中。
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