大家好，最近在鍍時(shí)用TFCalc模擬的結(jié)果如下，Stack: (HL)^10 L (HL)^10，H: Si3N4，L: SiO2，其中高、低折射率材料是用的實(shí)際鍍膜后實(shí)際測試的折射率參數(shù)，應(yīng)該比較真實(shí)吧。 0SvPyf%A
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圖片:simulation.jpg

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但測試結(jié)果如下，除了透射峰的位置不準(zhǔn)確外，透射峰基本上沒有了，為什么結(jié)果很差。我一直認(rèn)為是吸收太大所致，但模擬時(shí)采用的是真實(shí)測量的n、k值，多層膜吸收已經(jīng)考慮之后進(jìn)行的模擬，請大家?guī)兔Ψ治鲆幌拢�非常感謝！ >KGQ#hnH  

圖片:Test result.jpg

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