大家好，最近在鍍時(shí)用
TFCalc模擬的結(jié)果如下，Stack: (HL)^10 L (HL)^10，H: Si3N4，L: SiO2，其中高、低
折射率材料是用的實(shí)際
鍍膜后實(shí)際測(cè)試的折射率
參數(shù)，應(yīng)該比較真實(shí)吧。
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<WhdQKFf- 但測(cè)試結(jié)果如下，除了透射峰的位置不準(zhǔn)確外，透射峰基本上沒(méi)有了，為什么結(jié)果很差。我一直認(rèn)為是吸收太大所致，但
模擬時(shí)采用的是真實(shí)測(cè)量的n、k值，多層膜吸收已經(jīng)考慮之后進(jìn)行的模擬，請(qǐng)大家?guī)兔Ψ治鲆幌拢浅８兄x！
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9cQZ`Ex r&6X|2@ w@,Yj#_9cx Q'D%?Vg' "X<vgM^: Bc { j0Su d^AXhQjQN- m X2i^.zH [ 此帖被zlygsl在2017-05-08 19:41重新編輯 ]
