大家好,最近在鍍時(shí)用
TFCalc模擬的結(jié)果如下,Stack: (HL)^10 L (HL)^10,H: Si3N4,L: SiO2,其中高、低
折射率材料是用的實(shí)際
鍍膜后實(shí)際測(cè)試的折射率
參數(shù),應(yīng)該比較真實(shí)吧。
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c;fyUi 但測(cè)試結(jié)果如下,除了透射峰的位置不準(zhǔn)確外,透射峰基本上沒(méi)有了,為什么結(jié)果很差。我一直認(rèn)為是吸收太大所致,但
模擬時(shí)采用的是真實(shí)測(cè)量的n、k值,多層膜吸收已經(jīng)考慮之后進(jìn)行的模擬,請(qǐng)大家?guī)兔Ψ治鲆幌拢浅8兄x!
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