首先聲明一下,在這里表達(dá)的只是個(gè)人看法,并不一定有道理。
M7qg\1L 關(guān)于
鍍膜,大家都追求的是鍍膜的連續(xù)性和穩(wěn)定性。
VnN(lJ 甚至為了穩(wěn)定性,一些鍍膜機(jī)廠家寧可犧牲性能。
;-i)}< 比如說鍍膜過程中使用APC充氧:
HE*^!2f 很多人認(rèn)為APC充氧只是為了給類似于TiO2這些易失氧膜料進(jìn)行補(bǔ)氧。
p+Yy"wH:h{ 其實(shí)不然。使用離子源的情況下,氧其實(shí)是足夠的。
rE"FN~9P APC充氧還有一個(gè)重要的目的,維持鍍膜環(huán)境的穩(wěn)定性。
JSFNn]z2P APC是自動(dòng)壓力控制的英文縮寫,它能起到穩(wěn)定真空腔體真空度的作用。
klmbbLce ^Cp;#|g, 在真空中,有個(gè)平均自由程的概念,一個(gè)粒子平均運(yùn)動(dòng)多遠(yuǎn)才能和其他粒子碰撞。
\HD:#a 真空度越高,平均自由程越長,
電子槍和離子源發(fā)出來原子或者離子就會(huì)更多的到達(dá)基板表面。
QfjoHeG7 但是隨著腔體的逐漸變臟,鍍膜時(shí)候的真空度會(huì)變差,到達(dá)基板的原子和離子就會(huì)變少。
tv-SX=T 一般會(huì)表現(xiàn)為外圈和內(nèi)圈的分布變化,還有
折射率的變化。
HZ(giAyjq 為了讓分布和折射率穩(wěn)定,在鍍膜過程中使用APC是個(gè)解決的辦法。
`m V(: E\2f"s APC充氧口(也有充氮,充其他氣體的)的位置也很重要。
F`;q9<NYRW 如果是補(bǔ)氧和維持真空度兼而有之的,一般充氧口放在底板的中心位置。
b 2\J<Nw 如果有其他特殊原因(比如說
工藝和外觀的要求),會(huì)有在傘圈下方100mm處放置一個(gè)充氧環(huán),
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