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[原創(chuàng)]SYNOPSYS 光學(xué)設(shè)計(jì)軟件課程七十九：反射式光刻物鏡設(shè)計(jì) [復(fù)制鏈接]

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2024-07-19

一．概述

隨著光刻分辨率的不斷提高，光學(xué)光刻機(jī)中采用的投影物鏡結(jié)構(gòu)型式經(jīng)歷了演變和篩選過程。在早期的低分辨率光刻機(jī)中，全反射型、全折射型、折反射型多種結(jié)構(gòu)型式并存：在目前的高分辨率光刻機(jī)中，全折射式結(jié)構(gòu)型式是主流。


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[原創(chuàng)]SYNOPSYS 光學(xué)設(shè)計(jì)軟件課程七十九：反射式光刻物鏡設(shè)計(jì) [復(fù)制鏈接]