近幾年國內(nèi)興起來很多
鍍膜機制造廠家,老牌的國外鍍膜機廠家日漸衰微。
Z(Q2Ue;}& 國外廠家以前值得夸耀的離子源
系統(tǒng)和光控系統(tǒng)國內(nèi)也基本攻克了,也就是穩(wěn)定性上有點優(yōu)勢。
($!KzxF3 ]/dVRkZeAE 國內(nèi)鍍膜機上常見的離子源應(yīng)該是霍爾源和射頻源。
Ruaur] 這兩種源都利用了磁場--電子在磁場做圓周(螺旋)運動,
sbsu(Sz+ 從而增加了
電子在空間的行程,增加了和工作氣體碰撞的幾率。
f7<pEGb 不同的是霍爾源一般是永磁鐵,磁場沒有變化;
pSAR/':eg 而射頻源是震蕩磁場,磁場會周期變化,電子也會周期振蕩。
B~gV'(9g 霍爾源一般沒有柵極,所以離子的能量(電壓)比較小,但是數(shù)量(電流)可以很大;
mLwY]2T" 射頻源有柵極,所以離子能量(電壓)可以加的很高,但是數(shù)量(電流)有限制。
d'HOpJE 一般鍍膜時候離子電壓在1kv水平就夠了;
(Mt5
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