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[原創(chuàng)]高平行度光學(xué)元件表面面形測(cè)量方法 [復(fù)制鏈接]

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2015-12-22

對(duì)于高平行度透/反射類元件，在布儒斯特角或者正入射情況下檢測(cè)時(shí)會(huì)出現(xiàn)因?yàn)楹蟊砻娑啻畏瓷涠a(chǎn)生的自干涉條紋問題，形成多組自干涉條紋，測(cè)試干涉條紋和自干涉條紋相互疊加。在測(cè)試的干涉條紋中帶有很明顯的自干涉條紋，造成最終的檢測(cè)波面出現(xiàn)數(shù)據(jù)的丟失，會(huì)嚴(yán)重影響到面形的計(jì)算。

為了防止檢測(cè)時(shí)候自干涉條紋的產(chǎn)生，一般都在加工時(shí)候使光學(xué)元件前后兩個(gè)面的楔角大于1′，這樣就能防止后表面的多次反射產(chǎn)生的影響，但是對(duì)于一些特殊要求的光學(xué)元件，平行度要求都比較高（優(yōu)于20″或更小），這就要求通過合適的檢測(cè)方法來解決自干涉條紋的問題。


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[原創(chuàng)]高平行度光學(xué)元件表面面形測(cè)量方法 [復(fù)制鏈接]